110gsm 100% 폴리에스테르 클로스 린트 무료 고청정실 와이퍼
폴리에스테르 경량읜 닦기(기술)
| 재료 | 100% 폴리에스테르 또는 주문 제작됩니다 |
|---|---|
| 로고 | 미에스드 또는 주문 제작됩니다 |
| 사이즈(인치) | 4*4/6*6/9*9/12*12 또는 주문 제작됩니다 |
| 청정 등급 | 10000-100 |
| 그램 중량 | 110g/m2±5g |
| 방식을 줄이기 | 레이저 |
| 특징 | 세탁되고 패키지인 오우 고청정실이 이온과 비휘발성 잔기의 극저준위를 제공합니다. 연마 표면에서 사용하기 위해 설계된 오우. 이 닦기는 쉽게 과정 또는 환경 안으로 릴리싱 기사와 섬유를 방해하거나 마모하지 않을 것입니다. 다양한 솔루션 과의 호환성을위한 오우 우수한 내화학성. 오우는 개별적으로 추적가능성과 품질 관리 용이하도록 암호화되는 것으로 제비뽑기를 합니다. 물과 용매에 오우 좋은 흡수. 평균 닦기 보다 더 많은 때와 잔여물을 가지세요. 더 효과적으로 잔여물을 표면에서 제거하세요. |
| 특성 ; (유닛) | 가치 | 검사 방법 |
| 기준 웨이트 ; 명목상 (g/m2) | 110 | MSD-QI-QS-007 A0 |
| 물에서 수분 흡습성 | IEST-RP-CC004.3 | |
| 본질적입니다 ; (mL/g) | 2.51 | |
| 부대적입니다 ; (mL/m2) | 308.73 | |
| 수착 비율 ; (두번째) | 1 | IEST-RP-CC004.3 |
| 비휘발성 잔기, NVR | IEST-RP-CC004.3 | |
| 탈염수에서 ; (g/m2) | 0.01 | |
| 이소프로판올에서 ; (g/m2) | 0.012 | |
| 특정 이온 | IEST-RP-CC004.3 | |
| 나트륨 ; (ppm) | 0.023 | |
| 염화물 ; (ppm) | 0.081 | |
| 칼륨 ; (ppm) | 0.079 |
우리의 제품은 전 세계적으로 판매됩니다. 당신은 우리 제품의 전체 과정을 안심할 수 있습니다.
